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ZZS-1100光學真空鍍膜機
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產品編號
數量
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詳細介紹
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設備型號:ZZS-1100光學真空鍍膜機 |
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腔體尺寸:φ1120mmxH1300mm |
恢復真空:4x10-3Pa,小于12分鐘 |
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工件盤:φ1060SR850 |
加熱溫度:最高350°C |
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晶控:SQC310單探頭六探頭 |
所需電力:三相、380V、50HZ |
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電子槍:雙槍 |
設備進水壓:0.2~0.4MPa |
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真空系統:擴散泵+雙級旋片泵+羅茨泵 |
所需氣壓:0.6~0.8MPa |
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極限真空:3x10-4Pa |
設備重量:4T |
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真空鍍膜設備的具體配置可根據客戶的鍍膜工藝要求進行量身設計及制作 |
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