真空鍍膜機主要是指一種需要在高真空下進行的鍍膜，包括真空離子蒸發鍍膜機、磁控濺射鍍膜機、MBE分子束外延鍍膜機和PLD激光濺射沉積鍍膜機。它主要分為蒸發和濺射。

在真空鍍膜機中，需要鍍膜的基體成為基體，被鍍材料成為靶材。基板和靶材位于同一真空室中。蒸發鍍膜一般是對靶材進行加熱，使表面組分以原子團簇或離子的形式蒸發，并通過成膜過程沉積在基材表面形成薄膜。對于濺射鍍膜，真空鍍膜機可以簡單地理解為用電子或高能激光轟擊靶材，以原子團簇或離子的形式濺射表面組分，沉積在基底表面，經歷成膜過程，形成薄膜。爐體可采用不銹鋼、碳鋼或其組合制成的雙層水冷結構。

根據工藝要求選擇不同規格型號的鍍膜設備，包括電阻蒸發真空鍍膜設備、電子束蒸發真空鍍膜設備、磁控濺射真空鍍膜設備、離子鍍真空鍍膜設備、磁控反應濺射真空鍍膜設備、，空心陰極離子鍍和多弧離子鍍。夾具的操作方式包括旋轉、旋轉和旋轉+旋轉。用戶可根據工件的尺寸和形狀、轉速范圍和旋轉精度提出相應的要求：普通可調和變頻調速。

不同類型鍍膜機的適用范圍介紹:

1、磁控濺射鍍膜設備：用于信息存儲領域，如磁信息存儲、磁光信息存儲等。

2、磁控濺射鍍膜機：用于航空發動機葉片、汽車鋼板、散熱器等防護涂層。

3、磁控濺射鋁膜生產線：用于太陽能利用領域，如太陽能集熱管、太陽能電池等。

4、光學鍍膜設備：用于光學薄膜領域，如減反射膜、高反射膜、截止濾光片、防偽膜等。

5、AZO透明導電膜磁控濺射鍍膜生產線：用于液晶屏、等離子屏等信息顯示領域

6、觸摸屏連續涂布生產線：用于觸摸屏領域，如手機、電腦、MP4等數碼產品屏幕。

7、磁控中頻多弧離子鍍膜設備：用于硬質涂層，如刀具、模具及耐磨耐蝕零件。

8、PECVD磁控管生產線：用于集成電路制造，如薄膜電阻器、薄膜電容器、薄膜溫度傳感器等。

9、蒸發真空鍍膜設備：用于手機殼、表殼、眼鏡架、五金、小飾品等裝飾性配件的鍍膜。

10、低輻射玻璃鍍膜生產線：適用于建筑玻璃，如防曬膜、低輻射玻璃、防霧防露、自潔玻璃等。

11、連續磁控濺射抗反射導電膜生產線：用于液晶顯示器、液晶電視、MP4、車載顯示器、手機顯示器、數碼相機、電腦等電子產品領域。